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关于四氧化三铁论文范文写作 纳米四氧化三铁磁粉在无损检测领域应用相关论文写作资料

主题:四氧化三铁论文写作 时间:2024-04-10

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【摘 要】 本文介绍了零维、一维、二维、三维纳米材料的制备方法、无损检测领域的磁粉粒径要求及其原因分析,展望了纳米四氧化三铁磁粉在无损检测领域的应用前景.

【关键词】 纳米 无损检测 磁粉

【DOI编码】 10.3969/j.issn.1674-4977.2016.09.002

纳米材料是指在三维空间中至少有一维处于纳米尺度范围或者由它们作为基本单元构成的材料,包括零维纳米材料、一维纳米材料、二维纳米材料、三维纳米材料等.近年来,纳米材料在节能、环保、化工、机械、电子、航空航天等领域发挥着不可替代的作用.纳米四氧化三铁材料有颗粒粒径小、比表面积很高等特性,在磁性液体、生物医学、微波吸附材料、催化剂载体、无损检测领域具有广阔的应用前景.磁粉检测属于无损检测的常规方法,将纳米材料和磁粉检测方法相结合,充分发挥纳米材料的优点,对促进磁粉检测技术的进步有着重要的意义.

1 纳米材料的制备方法

1.1 零维纳米材料的制备方法

零维纳米材料的制备方法主要有物理法和化学法.物理法制备零维纳米材料一般采用机械磨球法、真空冷凝法、物理粉碎法等.物理法制备的产品纯度低、粒径分布不均匀.化学法主要有共沉淀法、微乳液法、溶胶-凝胶法、水解法、水热法等.化学法获得的零维纳米材料粒子质量较好,颗粒直径较小.

1.2 一维纳米材料的制备方法

一维纳米材料的制备方法主要包括碳纳米管制备法、静电纺丝技术制备法、海岛模型制备法、催化挤出聚合法、原纤化法、分子喷丝板纺丝法等.碳纳米管制备法是利用外径为1nm~50nm、长度为几微米至几十微米的碳纳米管制备一维纳米材料的方法.静电纺丝技术制备法是将聚合物溶液或熔体在几千至几万伏的高压静电场下克服表面张力并产生带静电喷射流,使溶液和熔体在喷射过程中干燥、固化并落在接收装置上形成一维纳米材料的方法.海岛模型制备法是日本东丽公司发明的一种生产超细一维纳米材料的方法.催化挤出聚合法是日本*大学发明的一种生产聚乙烯一维纳米材料的方法.原纤化法是一种把长链多孔结构的纤维分裂为纳米尺寸的原纤或微原纤的方法.分子喷丝板纺丝法是在大环构型分子发展的基础上,采用理论、试验和计算机等手段来研究用于纺织纤维的一维纳米材料制备方法.

1.3 二维纳米材料的制备方法

二维纳米材料的制备方法,主要分为物理法和化学法.其中物理法包括低能团簇束沉积法、真空蒸发法、溅射沉积法、分子束和原子束外延技术、分子原子束自组装技术等;化学法包括溶胶-凝胶法、LB膜法、电沉积法、化学气相沉积法等.低能团簇束沉积法是采用电子束使团簇离子化,利用质谱仪分离,控制一定质量、能量的团簇沉积形成二维纳米材料的方法.真空蒸发法是将待镀膜的物质蒸发气化,并使气化的分子、原子在蒸发源和基体之间运动,凝聚、成核、生长,形成二维纳米材料的方法.溅射沉积法是通过高能粒子轰击靶面,使靶面上的原子、分子溅射出靶面,在基体上沉积形成二维纳米材料的方法.分子和原子束外延生长法是一种在高真空环境下的制备二维纳米材料的技术.分子自组装法是依赖分子间非共价键作用力自发结合成稳定聚集体的方法.溶胶-凝胶法是利用化学试剂制备所需的均匀稳定水溶胶,经烘烤干燥后形成二维纳米材料的方法.LB膜法是将双亲性分子置于水面,使在气-液界面形成紧密定向排列的单分子二维纳米材料的方法.电化学沉积法是在含有金属离子和非金属离子氧化物或非金属水溶液中,通过恒电压,在不同电极表面合成金属或化合物二维纳米材料的方法.化学气相沉积法主要被用来制备纳米颗粒薄膜材料.

1.4 三维纳米材料的制备方法

常用的三维纳米材料制备方法有:静电纺丝技术,水热法,射频溅射、直流溅射、电化学沉积综合法,去合金化法等.

2 无损检测领域的磁粉粒径要求及原因

2.1 磁粉粒径要求

磁粉检测是无损检测五大常规方法之一,是铁磁性材料表面无损检测的首选检测方法,应用比较广泛.磁粉的种类很多,按照磁痕观察的方式,磁粉分为荧光磁粉和非荧光磁粉;按照适用的施加方式,磁粉分为湿法用磁粉和干法用磁粉.荧光磁粉是以磁性氧化铁粉、工业纯铁粉和羟基铁粉为核心,在铁粉外面用环氧树脂黏附一层荧光染料或将荧光染料化学处理在铁粉表面制成的.非荧光磁粉常见的有四种,分别为:四氧化三铁黑磁粉、三氧化二铁红褐色磁粉、蓝磁粉、白磁粉.

JB/T 6063-1992规定磁粉颗粒尺寸:将一定量的干磁粉用孔径为0.18mm(80目)标准检验筛过筛,然后测定未能通过筛子的残留粉重量,以示出残留粉和原始磁粉重量间的关系,并以百分数表示.通过筛子的磁粉重量不应低于98%.JB/T 6063-2006对前一版标准有所改进,要求磁粉尺寸的范围满足以下3个方面:①下限直径d1:小于d1的磁粉不应多余10%;②平均直径da:50%的磁粉应大于da,50%的磁粉小于da;③上限直径du:大于du的磁粉不应多余10%.对于磁悬液应在d1≥1.5μm和du≤40μm范围内.干磁粉通常为d1≥40μm.

2.2 规定粒度范围的原因分析

磁粉粒度的大小对磁粉的悬浮性有较大的影响,漏磁场对不同颗粒的磁粉吸附能力有很大差别.检测工件表面微小缺陷时,宜选用粒度细小的湿法用磁粉,因为细磁粉的悬浮性好,容易被小缺陷产生的微弱漏磁场所磁化和吸附,形成磁痕显示才会线条清晰,定位准确.但是在表面粗糙的工件进行磁粉检测时,磁粉颗粒过小时容易聚集,并且受到灰尘的干扰,造成过渡背景或出现过多的伪缺陷.干法用黑磁粉一般选择粒度较粗的磁粉,容易在空气中分散开,而且磁导率较细磁粉高,减少粉尘的影响.

JB/T 6063-1992只是规定了磁粉粒度的上限值,这主要是受到当时的粒度检测技术的限制以及磁粉检测材料制备技术的限制;JB/T 6063-2006规定了磁粉粒度的上限值、下限值以及平均值,不仅反映了磁粉材料的制造技术已经从毫米级别达到了微米级别,也反映了粒度检测技术也达到了微米级别甚至纳米级.纳米磁性材料有着诸多的特性,可以解决小颗粒团聚问题、流动性问题等.

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